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Tanner EDA

更新日期:2018-01-02 10:07:24  瀏覽次數:4955次  作者:admin  【打印此頁】  【關閉

       Tanner是Mentor Graphics公司面向數模混合電路、模擬電路和MEMS設計等研發的集成電路設計工具。其早在1988年就已經面世,至今已有28年歷史。Tanner工具功能強大,從電路設計、版圖設計到仿真驗證一應俱全;且易學易用,目前在國內外有很高的知名度,當前用戶約有4000多個,分布在全球64個國家,如圖1所示。奧



成功案例



圖1   Tanner成功案例


數模混合設計流程

圖2 Tanner數模混合設計流程圖




Tanner數模混合設計流程是針對模擬/數模混合芯片全定制設計的流程,如圖2所示。該流程高度集成了IC設計從前端到后端的工具模塊,詳見表1,具體包括電路設計(S-edit,混合信號仿真(T-spice等),波形編輯(W-edit),版圖設計(L-edit)以及與目前業界Foundry廠兼容的物理驗證(LVS DRC)等。肯

Tanner可與當前流行的設計工具與相應的網表格式相互兼容,降低了因支持不同的Foundry導致的風險,包含多Foundry認證的PDK。該工具直觀性強,使用方便并有自己獨立的運行平臺。同時,Tanner支持WindowsLinux雙重操作環境。思


特點及優勢

完整的模擬/數模混合IC全定制設計組件

OpenAccessLEF/DEFLibertySDF數據格式支持

支持多重抽象級網表仿真:行為級、模塊級、門級

調試和驗證支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-AVHDL等語言

提供內建的庫導航器,有效跨越自頂向下和自底向上的層次化設計查看單元視圖

自頂向下的混合信號仿真

已驗證的,與綜合兼容的DFT支持

高速時序分析

 全角度版圖編輯

 實時DRC檢查,DRCLVS驗證與Calibre工具兼容

使用SDL加速版圖設計,可進行自動布局布線,支持HSPICE, PSPICE, VerilogCDL等格式數據導入

支持參數化cell,稱為T-cell,可用于可編程接口操作(UPI),創建自動化宏

HiPer DevGen可實現參數化器件生成版圖

支持多Foundry工藝

提供多語言菜單(英語,日語,簡體、繁體中文,德語,意大利語和俄語等)


                                                  1  Tanner 數模混合流程功能模塊

Tanner AMS IC Design Flow

電路圖設計

?

模擬版圖加速

?

波形編輯器

?

DRCLVS

?

Spice仿真

?

2D參數提取

?

行為級模型

?

3D參數提取

?

混合信號分析

?

Calibre接口

?

數字RTL仿真

?

標準單元布局布線

?

版圖編輯器

?

綜合

?

交互式或實時DRC檢查

?

靜態時序分析

?

節點高亮

?

DFT

?

Pad相關參數提取

?

自動測試激勵產生

?

電路驅動版圖(SDL

?

芯片級繞線

?


MEMS設計流程

在當前MEMS設計領域,工具集成度比以往增加了很多。為了應對市場競爭,用戶需要一個已經成功證明能夠加速商業項目設計周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件與相應模擬/數模混合電路設計的集成變得簡單,同時也能夠幫助用戶改善MEMS器件的設計。因此,它能夠減少培訓時間,縮短設計周期。




圖3  Tanner L-edit組件



Tanner MEMS設計流程的核心是L-edit,如圖3所示。L-edit是一款MEMS版圖編輯工具,可以進行曲線多邊形和全角運算操作。相比于工程師使用的其他CAD工具,L-edit的版圖規劃更加清晰。用戶可以快速的畫出所需的圖形,并方便地檢查多層版圖組合之間的重疊和相互關聯。利用L-edit例如強大的曲線編輯、實時DRC檢查、布爾運算、對象捕捉與對準等方面的優勢,用戶可以更有效的完成設計任務,并節約時間與成本。與此同時,在任意形狀與曲率的多邊形復雜運算和派生層生成操作上,L-edit的精度也可以做的非常高。這些操作包含ANDORXORSubtractGrow Shrink等。它們允許用戶根據簡單的形狀產生復雜的MEMS特殊結構。


特點及優勢

同一環境下完整的ICMEMS設計解決方案

25年的MEMS設計經驗

從版圖生成3D MEMS模型

支持導入和導出GDSOASISDXFGerber CIF 文件格式

L-Edit提供可視化連接的節點高亮,可以快速查找和定位DRCLVS問題

高度可編程的MEMS版圖設計工具,如曲線多邊形、多角操作等

參數化派生層產生工具,可實現特殊MEMS結構設計

完整可視化的多圖層幾何圖形設計

 利用工具欄便捷地生成、擺放和對準圖形,執行任意角度旋轉、翻轉、合并、咬和切片操作,指定一個參考點進行編輯操作,如對象旋轉、翻轉、移動,或使用基點位置進行實例放置等

針對MEMS工藝的DRC檢查

支持附帶邊界重構的DXF數據格式導入導出

支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 進行硅光器件設計

 SoftMEMS工具選項

—高級3D分析工具:機械,熱,聲,電,靜電,磁性和流體分析

—系統級仿真,包含ICMEMS協同仿真

—根據3D分析結果,自動生成MEMS器件行為模型



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